公司自主研發(fā)的等離子去膠機，外觀大方簡潔，質(zhì)量可靠，性能穩(wěn)定，廣泛應(yīng)用于納米材料學(xué)，半導(dǎo)體，微電子，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)，微流控生物學(xué)，LED，石墨烯等不同領(lǐng)域。
主要用于以下實驗：表面清潔、表面活化、鍵合、去膠、金屬還原、簡單刻蝕、器械的消毒、去除表面有機物、疏水實驗、鍍膜

產(chǎn)品特點：

　　1.公司自主研發(fā)*等離子體技術(shù)，松下高精度數(shù)字真空壓力表能實時檢測顯示艙體內(nèi)真實真空度，提供工藝參數(shù)里壓力值的計量依據(jù)

　　2.不銹鋼腔體，內(nèi)置電極板無污染，連體艙門更方便和更美觀，艙體、閥體，管路采用耐用防腐蝕材料;

　　3.采用電容式等離子激發(fā)，真空室等離子體分布均勻，處理效果好，可重復(fù)性;

　　4.控制系統(tǒng)：5寸彩色觸摸屏英文互動操作界面，自動控制并監(jiān)測儀器運行參數(shù)狀態(tài)，設(shè)置數(shù)據(jù)可存儲追溯。

      5.PLC全自動控制全流程,采用施耐德，歐姆龍等進口品牌電器元件，可在線設(shè)定，修改監(jiān)控真空壓力，處理時間，等離子功率等工藝參數(shù)，即可一鍵啟動，連續(xù)重復(fù)運行，J確控制試驗時間、真空度、功率等重要參數(shù),程序內(nèi)設(shè)多項安全保護，防止誤操作，對人和儀器做到大保護;

　　6.手動、自動兩種模式任意切換，手動模式用于實驗工藝的模擬，自動程序用于批量處理樣品。

　　7.可預(yù)置多個實驗參數(shù)，簡化操作，提高效率。編好程序自動完成整個實驗過程;

　　8.使用成本低，無需進行特殊維護，在日常使用中保持儀器清潔即可應(yīng)用領(lǐng)域;

　　9.安全保護：當(dāng)射頻模塊發(fā)生溫度異常升高時，可以自動感知并停止射頻模塊工作，保護樣品，提高設(shè)備安全和穩(wěn)定性;

     10：采用45度傾斜角操作面板設(shè)計，人性化操作界面操作起來方便舒適。

技術(shù)參數(shù)：